1. Silizioan oinarritutako LEDen egungo egoera teknologiko orokorraren ikuspegi orokorra

Siliziozko substratuetan GaN materialen hazkuntzak bi erronka tekniko handi ditu.Lehenik eta behin, silizio-substratuaren eta GaN-ren artean %17 arteko sare-desegokitzeak GaN materialaren barneko dislokazio-dentsitate handiagoa eragiten du, eta horrek lumineszentzia-eraginkortasunari eragiten dio;Bigarrenik, silizio-substratuaren eta GaN-ren artean % 54 arteko desegokitze termikoa dago, eta horrek GaN filmak pitzatzeko joera du tenperatura altuko hazkuntzaren ondoren eta giro-tenperaturara jaisten, ekoizpenaren errendimenduari eraginez.Hori dela eta, oso garrantzitsua da silizio-substratuaren eta GaN film mehearen arteko buffer-geruzaren hazkundea.Buffer-geruzak GaN barruko dislokazio-dentsitatea murrizteko eta GaN pitzadura arintzeko zeregina du.Neurri handi batean, buffer-geruzaren maila teknikoak LED-en barne-eraginkortasun kuantikoa eta ekoizpen-etekina zehazten ditu, hau da, silizioan oinarritutako ardatza eta zailtasuna.LED.Orain arte, industriaren zein akademiaren ikerketan eta garapenean inbertsio handiak eginda, erronka teknologiko hori, funtsean, gainditu egin da.

Siliziozko substratuak argi ikusgaia biziki xurgatzen du, beraz, GaN filma beste substratu batera eraman behar da.Transferitu aurretik, GaN filmaren eta beste substratuaren artean islapen handiko islatzaile bat sartzen da GaN-ak igortzen duen argia substratuak xurga ez dezan.Substratua transferitzearen ondoren LED egitura industrian Film Meheko txip gisa ezagutzen da.Film meheko txipek egitura formal tradizionaleko txipekiko abantailak dituzte korrontearen difusioari, eroankortasun termikoari eta puntu-uniformitateari dagokionez.

2. Egungo aplikazioaren egoera orokorraren eta silizioko substratu LEDen merkatuaren ikuspegi orokorra

Silizioan oinarritutako LEDek egitura bertikala, korronteen banaketa uniformea ​​eta difusio azkarra dute, eta potentzia handiko aplikazioetarako egokiak dira.Alde bakarreko argiaren irteera, norabide onaren eta argiaren kalitate ona dela eta, bereziki egokia da argiztapen mugikorretarako, hala nola automozioen argiztapena, bilatzaileak, meatzaritzako lanparak, telefono mugikorreko flash argiak eta argi kalitate handiko eskakizunak dituzten goi mailako argi-eremuak. .

Jigneng Optoelelectronics siliziozko substratu LEDaren teknologia eta prozesua heldu egin dira.Silizioko substratuaren argi urdineko LED txip-en alorrean abantaila nagusiak mantentzen jarraitzeko, gure produktuek norabide-argia eta kalitate handiko irteera behar duten argiztapen-eremuetara hedatzen jarraitzen dute, hala nola, errendimendu eta balio erantsi handiagoa duten argi zuriko LED txipetara. , LED telefono mugikorreko flash argiak, LED autoen faroak, LED kaleko argiak, LED atzeko argia, etab., pixkanaka-pixkanaka siliziozko substratuko LED txip-en posizio abantailatsua ezarriz segmentatutako industrian.

3. Silizio-substratuaren LEDaren garapen-joeraren iragarpena

Argiaren eraginkortasuna hobetzea, kostuak murriztea edo kostu-eraginkortasuna betiko gaia daLED industria.Siliziozko substratuko film mehe txipak ontziratu behar dira aplikatu aurretik, eta ontzien kostua LED aplikazioaren kostuaren zati handi bat da.Saltatu ontzi tradizionalak eta paketatu zuzenean osagaiak oblean.Beste era batera esanda, oblean txip-eskalaren ontziratzeak (CSP) ontzi-muturra saltatu dezake eta aplikazio-muturretik zuzenean sartu daiteke txip-muturretik, LEDaren aplikazio-kostua are gehiago murriztuz.CSP silizioan GaN oinarritutako LEDentzako aukera bat da.Toshiba eta Samsung bezalako nazioarteko enpresek CSPrako siliziozko LEDak erabiltzen dituztela jakinarazi dute, eta laster merkatuan erlazionatutako produktuak eskuragarri egongo direla uste da.

Azken urteotan, LED industriako beste puntu bero bat Micro LED da, mikrometro maila LED bezala ere ezaguna.Mikro LEDen tamaina mikrometro batzuetatik hamarnaka mikrometrora doa, epitaxia bidez hazitako GaN film meheen lodieraren maila berean.Mikrometro eskalan, GaN materialak zuzenean egituratutako GaNLED bertikalean egin daitezke euskarririk gabe.Hau da, Mikro LEDak prestatzeko prozesuan GaN hazteko substratua kendu behar da.Silizioan oinarritutako LEDen abantaila naturala da silizio-substratua kimiko hezearen grabaketarekin bakarrik ken daitekeela, GaN materialean inolako eraginik gabe kentzeko prozesuan, errendimendua eta fidagarritasuna bermatuz.Ikuspegi horretatik, silizio substratuko LED teknologiak Mikro LEDen alorrean lekua izan behar du.